B+W UV filter 40,5mm XS-PRO DIGTAL MRC nano 66-1073877

B+W UV filter 40,5 mm XS-PRO DIGTAL MRC nano.

Tento UV filter blokuje neviditeľné UV zložky svetla z oblohy, ktoré môžu spôsobiť rozmazanie snímok a na ktoré mnohé farebné filmy reagujú modrým nádychom. (Tieto filtre by sa mali správne nazývať "UV-blokujúce filtre", pretože existujú aj filtre na technické účely, ktoré naopak prepúšťajú UV svetlo a blokujú všetky ostatné vlnové dĺžky. Skrátený názov "UV filter" sa však medzi fotografmi ujal.) UV filtre sú ideálne na fotografovanie vo veľkých nadmorských výškach (v horách), pri mori a v oblastiach s veľmi čistým vzduchom. Snímky sú jasné a bez modrého odtieňa. Keďže sklo je bezfarebné, podanie farieb sa nemení (okrem odstránenia nežiaduceho modrého odtieňa) a nie je potrebné predlžovať expozíciu. Vďaka tomu je UV filter veľmi vhodný ako ochrana prednej šošovky objektívu pred prachom, poletujúcim pieskom, úlomkami vody a podobne a môže byť trvalo namontovaný na objektíve. Odporúča sa na analógovú farebnú a čiernobielu, ako aj digitálnu fotografiu.

Nano coating je vonkajšia ochranná vrstva, ktorou sú štandardne vybavené všetky filtre série XS-Pro Digital MRC. Funkcia "lotosového efektu" využívajúca nanotechnológiu zlepšuje odpudzovanie vody, vďaka čomu je čistenie tohto filtra ešte jednoduchšie a rýchlejšie. MRC nano má oproti bežnému MRC vylepšenú vonkajšiu (ôsmu) vrstvu.

Povrchová úprava MRC od spoločnosti B+W je nielen mimoriadne účinná viacvrstvová vrstva, ale je aj tvrdšia ako sklo, takže chráni filter pred poškriabaním (napríklad pri čistení filtra) a zároveň odpudzuje vodu a nečistoty, čím uľahčuje údržbu filtra.

Tento filter používa náš držiak XS-Pro Digital, ktorý je vhodný najmä pre digitálne zrkadlovky so širokouhlými objektívmi a objektívmi so zoomom. Má predný závit na príslušenstvo, ako sú krytky a clony atď. Všetky držiaky XS-Pro Digital sú mosadzné a majú matnú čiernu povrchovú úpravu, ktorá zabraňuje oslneniu.

Ultrafialové filtre absorbujú ultrafialové žiarenie a prepúšťajú všetko viditeľné svetlo. Potláčajú svetlo rozptýlené vzduchom - tento rozptyl je tým silnejší, čím kratšia je vlnová dĺžka. Preto sa nám vzdialenosti zdajú modrasté a z rovnakého dôvodu je modré svetlo oblohy modré. Ultrafialové žiarenie sa rozptyľuje ešte silnejšie, ale to nemôžeme posúdiť zrakom, pretože toto žiarenie nevidíme. Fotografická vrstva ho však zachytáva. Preto vzdialenosti a obloha vychádzajú na snímke príliš svetlé a vzdialené detaily nie sú veľmi zreteľné. Iná situácia je v horách, kde je vzduch čistý a obloha dostatočne tmavá, hoci tu je ultrafialové žiarenie veľmi silné a s výškou rýchlo narastá. Objektívy fotografických prístrojov nie sú dostatočne korigované na ultrafialové žiarenie. Preto sa rozmazaný obraz vytvorený ultrafialovým žiarením prekrýva s ostrým obrazom vykresleným svetlom a výsledná ostrosť je zhoršená. Použitím ultrafialového filtra sa dosiahne ostrý obraz aj vo veľkých výškach. Môže byť trvalo namontovaný na objektíve, a preto je vhodný aj ako mechanická ochrana.

Faktor filtra je 1,0.

Najnovšia generácia komôr na vrstvenie filtrov sú vysoko vyvinuté high-tech systémy, ktoré využívajú fyzikálne a chemické procesy na dosiahnutie vrstiev, ktoré sú výrazne stabilnejšie a tvrdšie ako vrstvy vytvorené v bežných vrstviacich komorách. Pri prechode svetla cez filter dochádza k odrazu na každom rozhraní svetlo-vzduch alebo vzduch-svetlo, pričom časť svetla sa odráža späť mimo objektívu. Bežné neupravené sklo spôsobuje stratu svetla pri odraze približne 2 až 4 %. Okrem toho môže dochádzať aj k odleskom, ktoré sa prejavia na fotografii. Je to spôsobené rozdielnymi indexmi lomu skla a vzduchu. Týmto chybám sa dá čeliť len nanesením tenkých vrstiev s rôznymi optickými vlastnosťami na filter (tzv. vrstvený filter). B+W na toto vákuové vrstvenie filtrov MRC (Multi Resistant Coating) používa špeciálne oxidy kovov, ktoré sú vysoko odolné voči poškriabaniu a priľnutiu. Hrúbka týchto vrstiev je v rozsahu 1/4 vlnovej dĺžky svetla, čo je približne 100 až 200 nanometrov. Jedna vrstva môže znížiť odrazivosť o viac ako polovicu. Na zníženie odrazov v celom rozsahu vlnových dĺžok viditeľného spektra je potrebných viacero vrstiev. Vysoko vyvinutý systém vrstvenia sa aplikuje vo vákuu na obe strany filtra. Vhodnou kombináciou iba niekoľkých vrstiev možno znížiť zvyškovú reflexiu v celom rozsahu viditeľného spektra na 0,5 %.

Revolučná vrstva, ktorá pokrýva sedem antireflexných vrstiev MRC. Vynikajúce optické vlastnosti sú chránené proti poškriabaniu touto extrémne tvrdou vrstvou a princípom lotto